首页> 外文OA文献 >X-ray photoelectron diffraction study of ultrathin PbTiO3 films
【2h】

X-ray photoelectron diffraction study of ultrathin PbTiO3 films

机译:超薄PbTiO 3 薄膜的X射线光电子衍射研究

代理获取
本网站仅为用户提供外文OA文献查询和代理获取服务,本网站没有原文。下单后我们将采用程序或人工为您竭诚获取高质量的原文,但由于OA文献来源多样且变更频繁,仍可能出现获取不到、文献不完整或与标题不符等情况,如果获取不到我们将提供退款服务。请知悉。

摘要

Full hemispherical X-ray photoelectron diffraction (XPD) experiments have been performed to investigate at the atomic level ultrathin epitaxial c-axis oriented PbTiO (PTO) films grown on Nb-doped SrTiO substrates. Comparison between experiment and theory allows us to identify a preferential ferroelectric polarization state in a 60 Å -thick PTO film. Multiple scattering theory based on a cluster-model [ Phys. Rev. B , 075404 (2001)] is used to simulate the experiments.
机译:已经进行了全半球X射线光电子衍射(XPD)实验,以研究在掺Nb的SrTiO衬底上生长的原子级超薄外延c轴取向PbTiO(PTO)膜。实验和理论之间的比较使我们能够确定60Å厚PTO膜中的优先铁电极化状态。基于聚类模型的多重散射理论Rev.B,075404(2001)]用于模拟实验。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
代理获取

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号